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国产7nm刻蚀机成功打入台积电!

       半导体芯片,是信息化时代的基石,也是当今尖端制造的制高点。全球芯片制造,已经进入10纳米到7纳米器件的量产时代。中国自主研发的第一台7纳米刻蚀机,是芯片制造和微观加工最核心的设备之一。它采用等离子体刻蚀技术——利用有化学活性的等离子体,在硅片上雕刻出微观电路。7纳米,相当于发丝直径的万分之一。这是目前人类能够在大生产线上制造出的最小的集成电路布线间距,接近微观加工的极限!而此前,中国内地的芯片制造,仅停留在28纳米的量产水平。如今,中国芯片制造装备,终于与世界先进水平接近。

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       现阶段半导体产业能量产的最先进的工艺节点是7nm,台积电全面领先。在7纳米制程设备方面,囊括了5大设备商包括应用材料(Applied Materials)、科林研发(LAM) 、东京威力科创(TEL)、日立先端(Hitach)、中微半导体。中微是唯一打入台积电7纳米制程刻蚀设备的大陆本土设备商。

       中微,也是中国自主研发的第一批7纳米芯片刻蚀机,它采用的是等离子体刻蚀技术。利用有化学活性的等离子体,在硅片上雕刻出微观电路。据介绍,在ICP芯片刻蚀中,关键尺寸的大小和芯片温度有着一一对应的关系。如果我们要求刻蚀均匀性达到1纳米,那么整个芯片的温度差异就要控制在2度以内。中微自主研发的温控设计,可以让刻蚀过程的温控精度保持在0.75度以内,优于国际水平。

气体喷淋盘是刻蚀机最重要的核心部件之一,也是7纳米芯片刻蚀机中的一项关键技术点。它的材料选择和设计对于刻蚀机性能指标的影响至关重要。中微和国内厂家合作,研制和优化了一整套采用等离子体增强的物理气象沉积金属陶瓷的方法,这种创新的方法极大地改善了材料的性能,其晶粒更为精细、致密,缺陷几乎为零。相比国外当前采用的喷淋盘,中国的陶瓷镀膜喷淋盘寿命可以延长一倍,造价却不到五分之一。

       中微董事长兼首席执行官尹志尧博士表示:“我国正在成为集成电路芯片和微观器件生产的大国,到2020年,在我国新的芯片生产线上的投资将会超过美国、日本和韩国等地区的投资,中国会变成一个最大的芯片生产基地。我们相信到2030年,我国的芯片和微观器件的加工能力和规模一定能完全赶上并在不少方面超过国际先进水平。”


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